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半導體磨片CSG-32-50-2A-GR

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晶圓是制造半導體芯片的基本材料,半導體集成電路最主要的原料是硅,因此對應的就是硅晶圓。硅在自然界中以硅酸鹽或二氧化硅的形式廣泛存在于巖石、砂礫中,硅晶圓的制造可以歸納為三個基本步驟:硅提煉及提純、單晶硅生長、晶圓成型。在晶圓進行封裝時,一般都需要通過磨片機對晶圓進行減薄厚度,其基本方式是通過半導體晶圓和研磨砂輪的相對運動來實現,分別是通過粗磨和精磨兩個砂輪進行減薄,精磨砂輪的顆粒尺寸直接決定了研磨的品質,但是目前減薄裝置只有一個砂輪,而半導體圓片級封裝領域對同一片晶圓又有不同的研磨品質的要求,其作業順序只能是:先進行硅面粗磨減薄,再進行精磨減薄,這樣導致需要多次進行磨輪的更換,不但浪費材料,還大大降低了設備的利用率。因此,急需一種可以同時具備兩種磨輪,無需更換磨輪,提高加工效率的磨片裝置。



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